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中芯國際推出0.11μm圖像傳感器制造技術

發(fā)布時間:2008-10-30 來源:中國電子元件行業(yè)協(xié)會

公司事件:

  • 中芯國際開發(fā)出了生產(chǎn)0.11μm CMOS圖像傳感器的工藝技術

事件影響:

  • 利用此次開發(fā)的工藝技術中芯國際中芯國際可以生產(chǎn)更高性能的CMOS傳感器

中國的中芯國際(SMIC)開發(fā)出了生產(chǎn)0.11μm CMOS圖像傳感器的工藝技術。其0.11μm工藝技術的布線層所用金屬材料既可使用鋁(Al)也可使用銅(Cu)。該公司已開始了0.11μm工藝技術的試生產(chǎn),可采用200mm或300mm晶圓生產(chǎn)。

SMIC表示:“利用此次開發(fā)的工藝技術可以生產(chǎn)比此前分辨率更高、噪音更低和高對比度的CMOS傳感器”

 

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