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給SiC FET設計PCB有哪些注意事項?

發(fā)布時間:2023-10-21 來源:Qorvo 責任編輯:wenwei

【導讀】SiC FET(即SiC JFET和硅MOSFET的常閉共源共柵組合)等寬帶隙半導體開關(guān)推出后,功率轉(zhuǎn)換產(chǎn)品無疑受益匪淺。此類器件具有超快的開關(guān)速度和較低的傳導損耗,能夠在各類應用中提高效率和功率密度。然而,與緩慢的舊技術(shù)相比,高電壓和電流邊緣速率與板寄生電容和電感的相互作用更大,可能產(chǎn)生不必要的感應電流和電壓,導致效率降低,組件受到應力,影響可靠性。此外,由于現(xiàn)在SiC FET導通電阻通常以毫歐為單位進行測量,因此,PCB跡線電阻可能相當大,須謹慎降低以保持低系統(tǒng)傳導損耗。 


設定電流邊緣速率


SiC FET可輕松實現(xiàn)超過1000A/μs的電流邊緣速率(圖1),這樣SiC FET、其負載和本地去耦電容之間的開關(guān)回路周圍的電感會產(chǎn)生瞬態(tài)電壓(圖2)。例如,依據(jù)E = -Ldi/dt,100nH回路電感可產(chǎn)生100V的瞬態(tài)電壓,這會導致器件工作電壓提高、擊穿裕量減少且EMI增加。 


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圖1 :與同等級的Si SJ MOSFET相比,SiC FET開關(guān)波形顯示 >1000A/μs 的邊緣速率


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圖2 :具有高di/dt的典型開關(guān)回路


這是真實的電感值,在典型電源應用中,考慮到組件的物理尺寸,無法將其緊密封裝在一起。例如,根據(jù)Terman的等式1計算得出,如果寬度(W)為2.5mm且銅重量(T)為2oz (0.07mm),對于每個 “出發(fā)” 和 “返回” 連接,僅50mm (l) 的PCB跡線可產(chǎn)生大約100nH的總電感。 


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這個關(guān)系適用于隔離的出發(fā)和返回跡線,不適用于返回平面上方的單條跡線。有趣的是,從圖中可以看出,電感與跡線寬度和厚度的關(guān)系相對較小,長度是主要因素。(圖3) 


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圖3 :根據(jù)等式1,隔離的跡線電感隨厚度和寬度的變化


圖表顯示,通過將高頻率去耦電容(圖2中的Cd)放置在比大直流鏈路電容更靠近開關(guān)的位置,可有效縮短長度并獲得最大優(yōu)勢,電容不是低電感類型時候效果更為明顯。如果出發(fā)和返回路徑十分接近,通常使用銅平面, 則電感大幅減少(圖4)。 


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圖4 :返回平面在跡線下方可顯著減少總電感


根據(jù)Clayton的等式2,現(xiàn)在,與返回平面相距1.6mm(H)的2.5mm(W) 跡線的總回路電感僅為32nH。該等式對W/H>1有效,同樣,跡線厚度不是主要因素,但現(xiàn)在,跡線寬度以及跡線與平面之間的距離可產(chǎn)生顯著影響(圖5)。如果返回平面同時位于跡線上方和下方,則電感進一步減少,并獲得增強屏蔽的額外優(yōu)勢。 


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圖5 :當返回路徑是銅平面時,電感減少,并隨著間隔距離和跡線寬度的變化而顯著變化


除跡線外,導通孔也會使電感增加,并且會出現(xiàn)電阻性壓降,應盡可能避免在功率路徑中使用。導通孔的電感取決于尺寸以及孔是否填補,直徑為0.5mm、長度為1.6mm且未填補的孔,其電感大約為0.5nH。該值通??梢院雎圆挥?,尤其是如果有多個平行的導通孔,功率路徑中可能會出現(xiàn)這種情況。


柵極和源連接中的公共連接電感是一大問題


如果 SiC FET 柵極驅(qū)動回路及其源極電流共用任一長度的跡線,則公共連接的電感會產(chǎn)生瞬態(tài)電壓,其中負載電流階躍作用于柵極驅(qū)動(圖6)。最糟糕的情況是,關(guān)斷驅(qū)動信號的幅度減小,這可能會導致 “幻象導通”,在橋式轉(zhuǎn)換器支路中產(chǎn)生 “擊穿”,帶來災難性損壞。即使分離的柵極驅(qū)動回路連接至三引腳TO-247器件的源極,仍有大約10nH的封裝電感,這是常見現(xiàn)象,無法消除,如果源極電流邊緣速率為1000A/μs,會產(chǎn)生10伏的瞬態(tài)電壓。在實際設計中,這些邊緣速率通常較為緩慢,解決方案之一是使用四引腳器件,并與源極建立單獨的內(nèi)部 “開爾文” 連接,比如UnitedSiC (Qorvo)提供的器件。這能夠?qū)⒐策B接電感降至大約1nH的裸片數(shù)據(jù),從而實現(xiàn)更高的邊緣速率以及可能更低的動態(tài)損耗。


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圖6 :高源極 di/dt 和公共連接電感會產(chǎn)生瞬態(tài)柵極電壓


電路電容可導致不必要的耦合


請注意,較寬的跡線可有效降低電感和瞬態(tài)電壓,但也會提高對相鄰跡線、組件和地面的電容。SiC FET所具備的高dV/dt 速率能夠引起位移電流,這會導致高EMI水平和混亂操作。例如,邊緣速率為100kV/μs 時,SiC FET可輕松開關(guān),僅通過10pF就能產(chǎn)生1A。電流以通常難以識別的路線圍繞系統(tǒng)流動。在高側(cè)開關(guān)的源連接處,對主開關(guān)節(jié)點的電容是一個特殊問題。主開關(guān)節(jié)點可通過物理方式隔離,以避免耦合至任何敏感的控制或反饋連接。然而,始終有路徑通過柵極驅(qū)動器連接至系統(tǒng)其余部分,即使利用磁力或通過光耦合器將其隔離,信號路徑和提供柵極驅(qū)動電源的DC-DC轉(zhuǎn)換器中也將存在殘余電容。為此,在指定具有低耦合電容的隔離部件時,應格外小心,最好不超過數(shù)pF。


開關(guān)節(jié)點和機箱接地之間的電容是共模EMI的主要來源,可能會導致超出法定限制。好在SiC FET等器件的效率往往意味著它們能夠使用小型未接地散熱器操作。如果必須使用較大的接地散熱器,開關(guān)器件和散熱器之間可使用銅箔形式的靜電屏蔽,但這勢必會提高熱阻,因此必須小心地對其進行絕緣處理,以滿足安全標準。


散熱考慮因素


SiC FET的損耗通常非常低,因此PCB跡線和平面可作為散熱器,將結(jié)溫保持在合理的范圍內(nèi)。由于與其他發(fā)熱組件的相互作用,此類布局的熱阻可能很難量化,因此通常使用多物理模擬軟件來預測結(jié)果。PCB材料、層數(shù)及其銅重量、氣流方向和速率、表面輻射系數(shù)和其他組件產(chǎn)生的交叉加熱都必須考慮在內(nèi)。


熱量可使用散熱孔通過PCB傳遞,憑借僅大約0.25W/m-K的核心熱導率,對FR4進行改進。直徑為0.5mm、長1.6mm且壁厚為0.025mm的未填補散熱孔的熱阻約為100°C/W(圖7)。 


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圖7:典型散熱孔的熱阻約為100°C/W。電阻約為0.7毫歐,電感約為0.5nH


舉個例子,僅12個該尺寸的散熱孔就可以將25平方毫米、厚1.6mm的PCB區(qū)域的頂部銅平面至底部銅平面的熱阻從約16°C/W減少至8°C/W。絕緣金屬基板 (IMS) 的熱阻約為FR4的45%,但其缺點是成本更高,并且對層數(shù)有實際限制。IMS介電厚度通常為每層0.15mm左右,以確保盡可能最低的熱阻,這通常是目標,但的確會產(chǎn)生相對較高的電容,并且正如所討論的,可能會產(chǎn)生高共模電流。IMS基板一般用于高密度應用,以便通過液體或強制空氣冷卻將熱量最大限度排出到板上。對于采用對流冷卻的非關(guān)鍵型系統(tǒng),與銅平面之間具備散熱孔的FR4可能更加適合。隨著越來越多的器件可采用頂部散熱方式,通過PCB對散熱路徑的依賴性降低。


Qorvo已證明,與通過串聯(lián)電阻減緩柵極驅(qū)動速度等方式相比,簡單的 RC 緩沖電路可有效限制開關(guān)邊緣產(chǎn)生的瞬態(tài)過電壓。具有極低耗散的相對較小的表貼組件可用于有效降低峰值電壓。緩沖電路應盡可能靠近器件,并使用具備足夠?qū)挾鹊嫩E線,以便最大限度減少電感,耗散必要的功率。跡線中以短 “頸” 形式出現(xiàn)的熱折斷可能有助于減少功率器件產(chǎn)生的交叉加熱。


PCB跡線電阻導致效率降低


現(xiàn)在,即使在高額定電壓下,SiC FET的導通電阻只有數(shù)毫歐,因此其傳導損耗可能非常低。然而,相關(guān)跡線電阻可能相當大,因此應盡可能減少跡線電阻,以維持SiC FET優(yōu)勢。為了評估影響,PCB電阻取決于銅電阻率、厚度、溫度和跡線長度。一種便捷的測量方式是沿著跡線計算 “平方” 的數(shù)量,例如,在25°C時,無論尺寸如何,35μm/1oz銅在每 “平方” 的電阻為0.5毫歐,所以1mm寬、 1mm長的跡線和10密耳寬、10密耳長的跡線一樣,電阻均為0.5毫歐。因此,正如我們在計算電感時使用的,對于長度只有 100mm的2.5mm跡線,測量得出其電阻為20毫歐——通常比最低的SiC FET導通電阻還要多。此外,隨著溫度升高,銅電阻增加,在本例中,100°C時,銅電阻增加至大約26毫歐,因此應將這一因素考慮在內(nèi)。對于直跡線,“計算平方數(shù)” 的方法十分準確,如有突然轉(zhuǎn)彎,由于電流集聚效應,拐角處的電阻率會提高。無論如何,應避免直角,以防止出現(xiàn)局部高電場強度,避免電壓擊穿風險增加。


對于交流電,應考慮 “趨膚效應”,即隨著頻率增加,電流往往集中到表面流動,而不是在大部分導線內(nèi)流動。但對于PCB跡線,該效應通常較小,趨膚深度約為66/f1/2mm,因此,即使在1MHz時,開關(guān)電流流向深度為0.07mm或總厚度為2oz的銅。諧波電流不會滲透得這么深,但其幅度更小。


當高頻率交流電通過銅平面返回時,可以假設該路徑上的電阻更低。然而,由于電流集中到功率跡線下方且只有直流組件顯著分散,優(yōu)勢并不明顯(圖8)。


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圖8 :平面中的交流返回電流集中到功率跡線下方。任何直流組件分散得更廣


結(jié)論


應了解并降低實際連接電阻,以便充分發(fā)揮SiC FET的潛在性能。在一些轉(zhuǎn)換拓撲結(jié)構(gòu)中,寄生電感和電容可能是諧振槽的一部分,因此通常也應該降低。在這種情況下,量化和控制電路值仍非常重要。


作者:Qorvo應用工程師Mike Zhu



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