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利用高帶寬任意波形發(fā)生器實現(xiàn)脈沖激光器的精準控制
高功率脈沖激光器是許多科學和工程實驗的核心技術(shù)，在光譜學、計量學、量子信息、原子物理學和材料研究領(lǐng)域中發(fā)揮驅(qū)動作用。為了能夠可靠、一致地進行這些實驗，研究人員需要以高精度、高靈活性和嚴格的時序控制來控制脈沖激光器。具有高采樣率的泰克任意波形發(fā)生器 (AWG) 能夠完成上述任務(wù)。
2024-01-26
波形發(fā)生器 脈沖激光器
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共射極放大電路反饋類型和作用解析
共射放大電路的反饋類型通常是電壓負反饋（Voltage Negative Feedback）。在共射放大電路中，將輸出信號通過一個反饋電阻連接到輸入信號源或輸入信號路徑，形成負反饋回路。負反饋通過將部分輸出信號反向傳輸回輸入端，可以對電路的增益、輸入/輸出阻抗、非線性失真等性能進行有效控制和調(diào)節(jié)。
2024-01-25
共射極 放大電路
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詳解多路復(fù)用器濾波器
多路復(fù)用器是一組射頻(RF)濾波器，它們組合在一起，但不會彼此加載，可以在輸出之間實現(xiàn)高度隔離。多路復(fù)用器被用于RF前端中靠近功率放大器(PA)的位置，對于載波聚合(CA)產(chǎn)生很大影響；天線復(fù)用器被用在射頻前端后面，以簡化與天線之間的路由。
2024-01-25
多路復(fù)用器 濾波器
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I-NPC三電平電路的雙脈沖及短路測試方法
雙脈沖測試(DPT)是一種被廣泛接受的評估功率器件動態(tài)特性的方法。以IGBT在兩電平橋式電路中應(yīng)用為例，如下圖，通過調(diào)節(jié)直流母線電壓和第一個脈沖持續(xù)時間，可以在第一個脈沖結(jié)束和第二個脈沖開始時捕捉到被測器件在任何所需的電壓和電流條件下的開關(guān)瞬態(tài)行為。DPT結(jié)果量化了功率器件的開關(guān)性能，并...
2024-01-24
I-NPC 三電平電路 雙脈沖 短路測試
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利用低電平有效輸出驅(qū)動高端MOSFET輸入開關(guān)以實現(xiàn)系統(tǒng)電源循環(huán)
在無線收發(fā)器等應(yīng)用中，系統(tǒng)一般處于偏遠地區(qū)，通常由電池供電。由于鮮少有人能夠前往現(xiàn)場進行干預(yù)，此類應(yīng)用必須持續(xù)運行。系統(tǒng)持續(xù)無活動或掛起后，需要復(fù)位系統(tǒng)以恢復(fù)操作。為了實現(xiàn)系統(tǒng)復(fù)位，可以切斷電源電壓，斷開系統(tǒng)電源，然后再次連接電源以重啟系統(tǒng)。
2024-01-24
低電平 高端MOSFET 系統(tǒng)電源循環(huán) 輸入開關(guān)
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10BASE-T1L MAC-PHY如何簡化低功耗處理器以太網(wǎng)連接
隨著越來越多的設(shè)備需要接入以太網(wǎng)，流程、工廠和樓宇自動化應(yīng)用中的單對以太網(wǎng)10BASE-T1L用例（包括以太網(wǎng)APL）不斷擴展。隨著互聯(lián)設(shè)備增加，更高級別的管理系統(tǒng)可以使用更豐富的數(shù)據(jù)集，從而使生產(chǎn)效率得以顯著提高，同時降低了運營成本和能耗。
2024-01-23
MAC-PHY 處理器 以太網(wǎng)
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機電執(zhí)行器需要智能集成驅(qū)動器解決方案以增強邊緣智能
為了增強邊緣智能，機電執(zhí)行器需要智能和高度集成的驅(qū)動器解決方案。這些智能邊緣設(shè)備融合了執(zhí)行器和傳感器功能，支持在機器層面更好地進行實時決策，并向更高的控制層級、云或AI生產(chǎn)力解決方案提供原位反饋信息。本文討論了模擬和數(shù)字技術(shù)交匯之處——智能邊緣的智能驅(qū)動器解決方案和技術(shù)。
2024-01-23
機電執(zhí)行器 集成驅(qū)動器 邊緣智能
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低 IQ 技術(shù)可實現(xiàn)更高效的電源管理
隨著電子技術(shù)和系統(tǒng)的迅猛發(fā)展，電池如今可謂是無處不在，為包括個人電子設(shè)備和電動汽車 (EV) 在內(nèi)的各種設(shè)備供電。轉(zhuǎn)向電池電源的趨勢沒有減緩的跡象，與此同時，設(shè)計的挑戰(zhàn)仍然存在，那就是如何在更長的時間內(nèi)實現(xiàn)更高的電池性能。
2024-01-22
低 IQ 技術(shù) 電源管理
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為刻蝕終點探測進行原位測量
半導體行業(yè)一直專注于使用先進的刻蝕設(shè)備和技術(shù)來實現(xiàn)圖形的微縮與先進技術(shù)的開發(fā)。隨著半導體器件尺寸縮減、工藝復(fù)雜程度提升，制造工藝中刻蝕工藝波動的影響將變得明顯。刻蝕終點探測用于確定刻蝕工藝是否完成、且沒有剩余材料可供刻蝕。這類終點探測有助于最大限度地減少刻蝕速率波動的影響。
2024-01-22
刻蝕設(shè)備 傳感器 計量學測量
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